控制。

这个设计相较于28nm的单一全局网格树来说，更能够大幅度降低动态功耗。

当然这样的电路优化结构对材料的要求也很高，譬如随着?尺寸变化，栅极线宽缩小，对栅极的材料要求更高。

28nm芯片采用的是多?晶硅材料，这种材料会导致有效栅极厚度增加，电场减弱。

这时候就需要更换材料来避免这个问?题。

如果连景的小组里没有方逾棋这个材料大神在的话?，那连景断然就止在了?这一步。但现在连景将手中的电脑转向面前的方逾棋询问?对方是不?是有什么办法？

方逾棋被连景叫醒的时候还有些茫然，他的眼睛定定地看了?连景几秒。那深蓝色的瞳孔在光下竟如同宝石一般熠熠生辉。等到清醒后，方逾棋才将目光落在面前的电脑屏幕上。

“可以试试看HKMG材料。”

HKMG材料是八年前由?E国研发作用在芯片上的材料，能有效地降低漏电率，提高晶体管性能和稳定性。但是国内一般很少?使用这个材料。

原因很简单，在28nm时代时，多?晶硅工艺已经非常成熟，而HKMG材料依旧还处于发展、改进阶段。尤其是HKMG材料在作用在芯片上时，还需要对集成工艺等进行改良。除此之外，还有一个重要的原因就是研发HKMG材料要投入大量的资金。

在多?晶硅还能使用时，没有任何一个厂商愿意投入高昂的资金去进行研发。

而现在之所以能使用，也是因为华制意识到多?晶硅不?行了?。

方逾棋对各种材料如数家珍，在对方的帮助下，他将芯片架构的材料和设计再?重新完善了?一番。等到他的内存访问?效率在14nm模型中提升到40%时，华制的考核也即将在三日?后开始。

相较于其他人的加班加点，连景三人反倒难得放松t?了?下来。他们三个人准备用剩余的时间，慢慢地将手中的内容整理成报告。

晚上七点，他们便将手头上的文挡保存，回寝室休息休息、准备睡觉。

方逾棋对这个安排很满意，他感觉再?不?回寝室，自己下一秒就要合上眼睛了?。