型的中国的半导体制造厂商签订了采购合同。

这种采购合同并没有什么奇怪的。

但是这五台光刻机，却足以让整个IC产业地动山摇。

一直以来，困扰着IC产业的193nm光源问题解决了。

尼康的157nm没能取得进展，阿斯麦尔的极紫外光还没取得突破性研究成果之际，在中国的那个小城市，那个不起眼的小城市，推出了采用132nm波长光源、双工件台的光刻机。

超越193nm！

这个几乎让摩尔定律都失效的波长，终于被突破了。

媒体后知后觉，当他们从旧报纸里找到嘲笑秦蓁的湿刻法方案的旧闻时，有的人脸上一阵臊红。

还有的，死鸭子嘴犟。