试想，国内光刻机远远落后于日本，现在还在使用接近式光刻技术却能够达到和日本半导体一般无二的良品率，可以想象晶圆纯度的提升有多牛掰。

但只有这个技术还不够。

毕竟提升晶圆纯度的方法是多样的，说不定哪天日本也掌握了其他方法提高晶圆纯度。

到那时候这专利也不再具有独一无二性。