自然是知道某为接下来要面临的困境，但他也没法告诉他们, 而且他预感自己公司也要上A国的制裁名单, 当务之急便是解决光刻机的问题。

同年, 阿斯麦尔宣布了EUV光刻机研发成功，因为DUV光刻机已经很难再优化了，DUV的工艺极限也就只能做到7纳米，如果要想再往前突破，就只能从EUV（极紫外）波长方向进行突破，经过多年的努力，EUV光刻机终于获得了成功。